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      石墨盤專用真空烤盤爐

       一.產品介紹

      真空烤盤爐是與MOCVD設備配套使用的爐體,爐內抽真空,被處理工件放置在爐膛內,采用清洗氣體加熱反應方式進行干式清洗(清洗氣體:N2,H2)。主要用于有效清除MOCVD承受器(SiC涂層石墨盤或石英盤)上的氮化鎵和氮化鋁等,可達到有效清潔處理,提高制品質量的目的。

      二、設計特點

      1、后門設計熱風電機

      2、降溫時風機開啟,同時兩端降溫封頭開啟,爐膛內產生如圖所示的氣體流向

      3、通過氣體介質將隔熱層內與水冷壁之間進行熱交換,達到快速降溫的目的

      三、技術指標

      使用溫度

      1450℃

      最高溫度

      1500℃

      絕熱材料

      石墨纖維毯、石墨紙

      馬弗材料

      SUS304

      加熱元件

      石墨加熱棒

      冷卻方式

      氣冷+循環風冷降溫

      控溫穩定度

      ±2℃,具有PID參數自整定功能

      爐膛溫度均勻度

      ±5℃(恒溫1550℃)

      控溫熱偶

      Wre5

      升溫速率

      15℃/min(空載)

      控溫點數

      1點

      降溫速率

      1450℃至80℃,240分鐘

      監測點數

      1點

      極限真空

      10-3torr級

      氣氛

      可向爐膛內通入干燥、潔凈、無油的高純度氮氣,純度≧99.999%

      抽氣速率

      空載下,30min達到10-2torr

      報警保護

      超溫、斷偶、停氣等聲光報警保護

      設備顏色

      電腦駝灰色

      電源

      容量大于160KVA,3相5線,220/380VAC,50Hz

      參考型號

      MOLKP-518W710×H710×D1000mm)

      MOLKP-1000(W1000×H1000×D1000mm)

      MOLKP-1200(W1000×H1000×D1200mm)

       


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